Le Congrès International de Métrologie aura lieu du 19 au 21 septembre 2017 à Paris, en conjonction avec Enova, le salon des technologies en électronique, mesure, vision et optique.

Le Congrès International de Métrologie est une manifestation, à vocation industrielle, qui permet :

• d’améliorer ses processus de mesure, d’analyse et d’essais, et ainsi maîtriser ses risques,
• de suivre les évolutions des techniques, les avancées R&D et découvrir des applications industrielles pratiques,
• de trouver sur l’exposition des technologies et solutions de mesure.

 
Public visé de tous les secteurs industriels :

• utilisateurs de moyens de mesure de toutes industries et laboratoires,
• responsables fiabilité et qualité, managers et décideurs,
•  fabricants d’appareils de mesure, distributeurs et prestataires,
•  enseignants et chercheurs.

 
Les conférences concernent :

• les processus : incertitudes, étalonnage, vérification, formation, optimisation des coûts…
• les techniques : masse, force, débit, dimensionnel, électricité, température, optique, mesures chimiques, mesures biologiques…
• les perspectives : mesures dynamiques, fabrication additive, data métrologie, réseaux intelligents, nanotechnologie, biotechnologie et santé, préoccupations environnementales…

 
Tables rondes et débats :

• drones et surveillance
• déclarations de conformité et évolution de l’ISO 17025
• mesures dynamiques et usine du futur
• progrès en mesure à l’échelle nano
• métrologie dans l’industrie pharmaceutique
• mesures pour la qualité de l’eau

 
L’appel à conférences est ouvert jusqu’au 15 janvier 2017 (dépôt des propositions sur www.cim2017.com).